Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching

Collectif

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Éditeur
Academic Press Inc
Pages
328
Parution
septembre 1994
Format
Cartonné
Langue
Anglais
Dimensions
229 × 152 × 21 cm
EAN
9780125330183
  • Résumé

Includes four chapters that discuss high-density plasma sources for materials processing, electron cyclotron resonance and its uses, unbalanced magnetron sputtering, and particle formation in thin film processing plasma.
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