Plasma Processes for Semiconductor Fabrication

Hitchon, W.N.G.

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Éditeur
Cambridge University Press
Pages
232
Parution
septembre 2005
Format
Livre broché
Langue
Anglais
Dimensions
253 × 177 × 12 cm
EAN
9780521018005
  • Résumé

An up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication.
Bio de l'auteur
Sommaire / contenu
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